无尘车间净化技术
该净化车间的空气悬浮粒子不大于规定数值。要实现这一点，首先要对极大量的送风经高效过滤。这种送风的目的在于：(1)过滤室内人员和设备散发出的粒子和细1菌;(2)向房间加压，确保颗粒大的空气不会流入无尘车间。其次，无尘车间的建筑材料不产生尘埃粒子且便于清洁。最后，无尘车间人员使用洁净服，使他们散发的粒子和微生物最少。这些措施及其他使用洁净无尘室引入、产生、滞留的污染降至最少的类拟措施。无尘车间还可以控制温度、湿度、声音、照明、振动。但这些特性并非无尘车间所专有。
洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，gmp净化工程，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，淮北净化工程，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高，粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产最i佳湿度范围为35—45%。
无尘车间特点
无尘车间有哪些特点呢?
(1)首先无尘室是指将一定空间范围内之空气中的微粒子、有害空气、细1菌等之污染物排除，并将室内之温度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音振动及照明、静电控制在某一需求范围内，而所给予特别设计之房间。亦即是不论外在之空气条件如何变化，其室内均能俱有维持原先所设定要求之洁净度、温湿度及压力等性能之特性。
(2)净化等级分为百级、千级、万级、十万级，根据不同行业产品对生产环境的要求不一，而选择不同的净化等级。
(3)洁净室涉及范围为食品、化妆品、医1疗器械、生物制药、电子、注塑工业。
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